异质衬底外延碲镉汞薄膜位错抑制技术进展
2023-01-09
分子束外延碲镉汞技术是制备第三代红外焦平面探测器的重要手段,基于异质衬底的碲镉汞材料具有尺寸大、成本低、与常规半导体设备兼容等优点,是目前低成本高性能红外探测器发展中的研究重点。
分子束外延碲镉汞技术是制备第三代红外焦平面探测器的重要手段,基于异质衬底的碲镉汞材料具有尺寸大、成本低、与常规半导体设备兼容等优点,是目前低成本高性能红外探测器发展中的研究重点。
传统的长波碲镉汞红外焦平面器件一般基于n-on-p结构。与n-on-p材料相比,p-on-n材料具有更低的暗电流和更高的工作温度,更适于长波以及高温工作碲镉汞红外焦平面器件。
这项研究阐述了雪崩光电二极管(APD)原理及结构,重点对近年来国外相关研究进展及应用情况进行了介绍,并对国内研究机构在碲镉汞APD仿真模拟、器件制备等方面的研究成果进行了总结。
HgxCd1-xTe材料具有优异的光电特性,是制备高灵敏度红外探测器的最重要材料之一。HgxCd1-xTe薄膜表面钝化工艺对HgxCd1-xTe红外探测器的性能提升至关重要。
高德红外发布了获得装备总体生产资质的公告,资质的授予对高德具有非凡意义,公司从做芯片、配套光电系统的企业变成总体企业,对公司而言是跨时代的事件。
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