以CMOS技术制备的SPAD凭借其低制造成本、可大规模量产以及与电路的单片集成能力等优势而备受关注。这项研究报道了一种利用55 nm双极型CMOS-DMOS(BCD)技术实现的SPAD。

该研究通过磁控溅射技术在n型Si衬底上制备了晶圆级碲纳米颗粒薄膜,并采用微纳光刻技术构建了基于Te/Si异质结的具有高像素密度和出色性能的近红外成像阵列。

为了推动超构表面集成光学系统的应用,有必要对集成超构表面进行综述,为指导高端光学元件和超构表面的整合铺平道路。在此背景下,研究人员发表了一篇综述文章,介绍了与发射器、接收器、MEMS、LC、加热器、ROE、平面波导和光纤等标准光学元件整合的集成超构表面。